OFDR光測定装置、光ファイバー検査距離を拡張

波長掃引型フォトニクスアナライザ (型式：SPA-200)

光ファイバーアセンブリやフォトニクスデバイスの検査には、長距離にわたる微小損失や反射点を高精度で測定できる装置が求められる。このような背景のもと、Santec LIS株式会社はOFDR技術を用いた波長掃引型フォトニクスアナライザSPA-200を開発した。

光ファイバー検査向けOFDR測定距離の拡張
SPA-200はOptical Frequency Domain Reflectometry（OFDR）技術を採用し、光ファイバー内の反射点検出、故障箇所特定、微小損失測定を可能にする装置である。これらの機能は、通信インフラ、フォトニクス製造、半導体光デバイス開発などの分野で活用が想定される。

本装置は最大測定距離を従来機SPA-110の約30mから250mへと拡張し、長尺の光ファイバーケーブルや複雑なフォトニック構造の評価に対応する。

測定距離の大幅な拡張にもかかわらず、位置分解能は従来と同じ5µmを維持しており、光路内の微小な反射や局所的な損失の詳細解析を可能にしている。

偏波非依存検出器による測定安定性の向上
SPA-200には新開発の偏波非依存検出器が搭載されており、特に偏波保持構造を持たないデバイスにおいて損失測定のばらつきを低減する設計となっている。

この構成により、偏波状態の変化による測定誤差を抑制し、損失測定の再現性向上が図られている。こうした特性は、データ通信インフラやフォトニクス製造工程で使用される光インターコネクトやフォトニック集積回路の評価において有効となる。

シリコンフォトニクスの開発から量産まで対応
本装置は導波路伝搬損失や微小挿入損失の測定にも対応しており、シリコンフォトニクスの研究開発から製造工程での品質検査まで幅広い用途を想定している。

研究開発、試作、量産の各段階において、統一された測定手法によるデバイス評価やプロセス管理を支援する測定機器として位置付けられている。

測定距離の拡張、マイクロメートル級の位置分解能、損失測定の安定性向上を組み合わせたSPA-200は、フォトニクス開発および製造分野における光部品検査向け測定装置として活用が想定される。

産業ジャーナリスト Aishwarya Mambet により編集、AI支援のもと。

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